新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

應(yīng)用場合：

☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；

☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；

☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；

☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料；

☆實驗室和中試車間；

☆汽車、家電表面拋光處理；

☆光電產(chǎn)品；

☆其他高科技精微產(chǎn)品；

光電行業(yè)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。