光學薄膜清洗用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。